Depuis la d?couverte de la microcolonne par Chang en 1980, les microcolonnes miniaturis?es ont suscit? un immense int?r?t en raison de leurs diverses applications, telles que la lithographie directe par faisceau d'?lectrons, les dispositifs ? faible co?t, les SEM ? faible tension et les SEM portables, en raison de leur rendement ?lev?. La taille compacte permet aux microcolonnes d'?tre assembl?es en r?seau, ce qui am?liore consid?rablement les performances d'imagerie ou le d?bit de la capacit? de lithographie. Nous avons fabriqu? et ?tudi? trois mod?les diff?rents de micro-colonnes, tous utilisant la lentille source modifi?e, une distance de travail diff?rente et avec ou sans objectif. La qualit? de l'image et le courant de sonde de toutes les microcolonnes nouvellement fabriqu?es ont ?t? ?tudi?s. Les lentilles ?lectrostatiques ont ?t? fabriqu?es par la technique MEMS. L'?metteur de champ 2D-CNT a ?t? utilis? comme ?metteur de source pour ces colonnes. Nos r?sultats sugg?rent que parmi les trois structures de microcolonnes, la microcolonne ultraminiaturis?e pr?sente le courant de sonde le plus ?lev? ( 9,5 nA). Une microcolonne ultraminiaturis?e peut ?tre un candidat prometteur pour la prochaine g?n?ration d'outils de lithographie, car sa conception est plus adapt?e ? une microcolonne int?gr?e ? l'?chelle de la tranche que la microcolonne conventionnelle.
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