notre poque, les appareils lectroniques tels que les t l phones mobiles, les ordinateurs, les ordinateurs portables, les capteurs et bien d'autres appareils sont devenus une n cessit pour les hommes en mati re de soins de sant , de mode de vie agr able et d'ex cution rapide et facile des t ches. Diff rents types de capteurs de temp rature, de biocapteurs, de photocapteurs, etc. ont t mis au point pour r pondre aux besoins de la population. Tous ces dispositifs contiennent des puces fabriqu es l'aide de diodes, de transistors, de portes logiques et de circuits int gr s. Le modelage du substrat utilis pour le d veloppement ult rieur de ces dispositifs est effectu l'aide d'une technique connue sous le nom de lithographie. Dans le pr sent travail, nous avons pass en revue les diff rents types de techniques lithographiques telles que la lithographie optique, la lithographie dans l'ultraviolet extr me, la lithographie par faisceau d' lectrons, la lithographie par rayons X et la lithographie par faisceau d'ions. Les volutions de ces techniques au fil du temps et leurs applications dans la fabrication de dispositifs sont examin es. Les diff rents outils d'exposition d velopp s au cours de la derni re d cennie pour am liorer la r solution des dispositifs sont galement abord s. Les r sines amplifi es chimiquement et non amplifi es chimiquement, leur liaison et leur paisseur sont abord es.
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