In der Arbeit werden verschiedene theoretische Modelle vorgestellt, die erl utern welche M glichkeiten es gibt, dass es zu einer Absorption in den transparenten Beschichtungsmaterialien kommt und welche Faktoren die Absorption beeinflussen. Hierbei wird vor allem auf die lineare und nichtlineare Absorption von Photonen eingegangen. Zudem wird analysiert welchen Stellenwert die Gr sse der Bandl cke, im Bezug auf die Bearbeitung bei einer bestimmten Wellenl nge, einnimmt. Basierend auf den theoretischen berlegungen, wurden experimentelle Versuche mit den beiden Wellenl ngen 355 nm und 1064 nm durchgef hrt und in einer abschliessenden Diskussion miteinander verglichen. Nachdem die Beschichtungen mit dem Laser bearbeitet wurden, wurde das Abtragsverhalten und die Abtragstiefe mit einem Lichtmikroskop und einem Rasterkraftmikroskop untersucht. F r die Beschichtungen w hlte man Ti3O5 und SiO2, als Substrate wurden Si-Wafer und BK7-Glas verwendet.
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