O livro "Micro-electronic Processes for VLSI Fabrication" um guia completo e autorizado que analisa os princ pios fundamentais e as t cnicas avan adas utilizadas no fabrico de circuitos integrados de muito grande escala (VLSI). Abrangendo um vasto leque de t picos, o livro come a com uma introdu o aprofundada tecnologia de semicondutores de sil cio, incluindo uma panor mica dos materiais semicondutores, estrutura cristalina do sil cio, semicondutores intr nsecos e extr nsecos e os meandros da dopagem e da concentra o de portadores. Os cap tulos subsequentes aprofundam aspectos cruciais do fabrico de VLSI, explorando t cnicas de processamento de bolachas, tais como crescimento, prepara o, inspe o de defeitos e v rios m todos de limpeza de bolachas. O processo cr tico de oxida o abordado em pormenor, explicando as t cnicas de oxida o t rmica, seca e h mida, bem como os modelos de crescimento de xidos. O livro examina extensivamente os m todos de deposi o epitaxial, incluindo a deposi o qu mica de vapor (CVD), a epitaxia por feixe molecular (MBE) e a epitaxia selectiva. A implanta o e a difus o de i es, processos fundamentais para o fabrico de dispositivos semicondutores, s o tamb m meticulosamente discutidas, com informa es sobre os processos de implanta o de i es.
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