Inhaltsangabe: Einleitung: Die immer gr er werdenden industriellen Anforderungen an die verwendeten Werkstoffe, sowie die Tendenz immer billiger zu produzieren, verlangen nach neuen Herstellungs- und Veredelungsmethoden einerseits, andererseits aber nach immer sparsamerem Einsatz der teuren Ausgangsprodukte. Diese zwei Gesichtspunkte lenkten die Entwicklung in Richtung neuartiger, innovativer Materialien und deren Herstellungsmethoden. Die beiden wichtigsten Vertreter der neuen Materialien sind der Diamant und das kubische Bornitrid, die bisher h rtesten bekannten Stoffe. Wurde lange Zeit besonderes Augenmerk auf die Erforschung des Diamants gelegt, so ist seit dem letzten Jahrzehnt eine rasante Entwicklung bei der Untersuchung des kubischen Bornitrids zu beobachten. Es zeigte sich, da es dem Diamant in vielen Eigenschaften wie au ergew hnlich hoher H rte, hoher optischer Transparenz sowie chemischer Best ndigkeit ebenb rtig ist. In anderen Eigenschaften jedoch, zum Beispiel der h heren Best ndigkeit gegen Sauerstoff unter Temperatureinwirkung und dem geringeren Verschlei bei der Bearbeitung von Metallegierungen im Vergleich zum Karbidbildner Diamant ist kubisches Bornitrid ihm weit berlegen. Der wohl wichtigste Vorteil des kubischen Bornitrids ist die M glichkeit, den Kristall sowohl p- als auch n- zu dotieren. Beim Diamant ist es bis heute nicht gelungen, eine n-Dotierung zu erreichen. Die Bandstruktur des kubischen Bornitrids erm glicht direkte berg nge und l t so an die Entwicklung photoaktiver Halbleiterbauelemente f r den UV-Bereich denken. Der gro e Bandabstand erlaubt den Einsatz von kubischen Bornitridschichten als Isolatormaterial. Die Beschichtung von Oberfl chen, sei es als Verschlei schutz (Bohrer, Fr ser) oder lediglich als Schutz vor sch dlicher Fremdeinwirkung (Gl ser, optische Bauteile, Bauteile in chemisch tzenden Umgebungen) ist vor allem in Hinblick auf den vergleichsweise geringen Materialeinsatz (die Schichten m ssen lediglich weni
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