Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie. [German]

By Stephan Altmannshofer

In dieser Arbeit werden verschiedene Mikrowellenplasmaunterst tzte Prozesse untersucht. Es werden tz- und Abscheideprozesse erforscht, die in der Halbleitertechnologie n tig sind. Dabei wird darauf geachtet, dass die Prozesstemperatur sehr gering ist. Durch die in der Arbeit untersuchten plasmaunterst tzten Prozesse, kann eine epitaktische Siliziumschicht bereits bei 450 C abgeschieden werden.

• Format: Paperback
• Language: German
• ISBN: 3839614430
• ISBN13: 9783839614433
• Release Date: March 2019
• Publisher: Fraunhofer Verlag
• Length: 230 Pages
• Weight: 0.62 lbs.
• Dimensions: 0.5" x 5.8" x 8.3"