"Micro-electronic Processes for VLSI Fabrication" ist ein umfassender und ma geblicher Leitfaden, der sich mit den grundlegenden Prinzipien und fortgeschrittenen Techniken besch ftigt, die bei der Herstellung von Very Large Scale Integrated (VLSI)-Schaltungen zum Einsatz kommen. Das Buch beginnt mit einer ausf hrlichen Einf hrung in die Silizium-Halbleitertechnologie, die einen berblick ber Halbleitermaterialien, die Kristallstruktur von Silizium, intrinsische und extrinsische Halbleiter sowie die Feinheiten der Dotierung und Ladungstr gerkonzentration enth lt. Der kritische Prozess der Oxidation wird detailliert behandelt, wobei thermische, trockene und nasse Oxidationstechniken zusammen mit Oxidwachstumsmodellen erl utert werden. Das Buch untersucht ausf hrlich die Methoden der Epitaxieabscheidung, einschlie lich der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD), der Molekularstrahlepitaxie (MBE) und der selektiven Epitaxie. Ionenimplantation und -diffusion, die f r die Herstellung von Halbleiterbauelementen von zentraler Bedeutung sind, werden ebenfalls ausf hrlich er rtert, wobei auch Einblicke in Ionenimplantationsprozesse gew hrt werden.
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