Seit der Entdeckung der Mikros?ule durch Chang im Jahr 1980 ist das Interesse an miniaturisierten Mikros?ulen aufgrund ihrer vielf?ltigen Einsatzm?glichkeiten wie direkte E-Beam-Lithographie, kosteng?nstige Ger?te, Niederspannungs-SEM und tragbare SEM aufgrund ihrer hohen Durchsatzleistung immens. Die kompakte Gr? e erm?glicht es, Mikros?ulen in Array-Form zusammenzusetzen, was die Abbildungsleistung oder den Durchsatz der Lithografie-F?higkeit erheblich verbessert. Wir haben drei verschiedene Designs von Mikros?ulen hergestellt und untersucht, die alle die modifizierte Quelllinse, verschiedene Arbeitsabst?nde sowie mit und ohne Objektivlinse verwenden. Die Bildqualit?t und der Sondenstrom aller neu hergestellten Mikros?ulen wurden untersucht. Die elektrostatischen Linsen wurden mit Hilfe der MEMS-Technik hergestellt. Der 2D-CNT-Feldemitter wurde als Quellenemitter f?r diese S?ulen verwendet. Unsere Ergebnisse zeigten, dass von allen drei Mikros?ulenstrukturen die ultraminiaturisierte Mikros?ule den h?chsten Sondenstrom ( 9,5 nA) aufwies. Eine ultraminiaturisierte Mikros?ule kann ein vielversprechender Kandidat f?r die n?chste Generation von Lithographie-Werkzeugen sein, da das Design f?r integrierte Mikros?ulen im Wafer-Ma stab besser geeignet ist als herk?mmliche Mikros?ulen.
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