In der heutigen Zeit sind elektronische Ger te wie Mobiltelefone, Computer, Laptops, Sensoren und viele andere Ger te f r den Menschen zu einer Notwendigkeit geworden, um sich zu versorgen, einen angenehmen Lebensstil zu f hren und Aufgaben schnell und einfach zu erledigen. Verschiedene Arten von Temperatursensoren, Biosensoren, Fotosensoren usw. wurden entwickelt, um die Bed rfnisse der Menschen zu erf llen. In all diesen Ger ten befinden sich Chips, die mit Dioden, Transistoren, Logikgattern und ICs hergestellt werden. Die Strukturierung des Substrats, das f r die weitere Entwicklung dieser Ger te verwendet wird, erfolgt mit Hilfe einer Technik, die als Lithographie bekannt ist. In der vorliegenden Arbeit haben wir einen berblick ber verschiedene Arten von Lithografietechniken wie optische Lithografie, Extrem-Ultraviolett-Lithografie, Elektronenstrahl-Lithografie, R ntgenstrahl-Lithografie und Ionenstrahl-Lithografie gegeben. Die Entwicklung dieser Techniken im Laufe der Zeit und ihre Anwendungen bei der Herstellung von Bauelementen werden er rtert. Es wird auch auf verschiedene Belichtungswerkzeuge eingegangen, die in den letzten zehn Jahren entwickelt wurden, um die Aufl sung der Bauelemente zu verbessern. Es werden chemisch verst rkte und nicht chemisch verst rkte Resists mit ihren Bindungen und Dicken diskutiert.
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