La pose d'implants dans la partie post rieure du maxillaire pr sente des difficult s importantes en raison de la r duction de la hauteur osseuse r sultant de la perte de dents, de l'expansion des sinus ou de la r sorption osseuse. Le processus naturel de perte osseuse dans cette r gion est acc l r par le manque de vascularisation et de stimulation musculaire, ce qui compromet la qualit de l'os. En outre, le sinus maxillaire s' tend souvent vers le bas, ce qui r duit encore la hauteur d'os disponible n cessaire la mise en place d'implants s rs. Historiquement, les implants dans le maxillaire post rieur taient pos s sans tenir compte de la topographie du sinus, ce qui entra nait souvent des probl mes proth tiques en raison d'une flexibilit et d'une contrainte excessives. Cela a conduit des checs potentiels des implants et des incertitudes quant au succ s long terme des implants sous-p riost s. Pour r soudre ces probl mes, la technique du sinus lift, introduite par Tatum Jr. et document e par Boyne, est devenue une proc dure essentielle pour augmenter le plancher sinusal afin de faciliter la pose d'implants. Il existe deux m thodes principales d' l vation du plancher sinusal: l'approche en un temps (transalv olaire) et l'approche en deux temps (fen tre lat rale).
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