Les besoins de l''industrie, contraint cette derni re mettre en jeu des mat riaux complexes qui n cessitent des outils adapt s pour les mettre en forme. Pour r pondre cette probl matique, plusieurs orientations peuvent tre envisag es. Une possibilit est de rev tir les outils de films minces afin de figer le plus longtemps possible la g om trie tout lui apportant de nouvelles propri t s. Cependant, afin de garantir une grande efficacit du d p t pendant les op rations de coupe, il est primordial que le rev tement poss de un excellent degr d''adh rence avec le substrat. Ce travail s''est donc orient vers l'' tude d''un nouveau proc d de d p t sous vide en phase vapeur qu''est l''HIPIMS (HIgh Power Impulse Magnetron Sputtering ) afin de le comprendre et de le ma triser pour synth tiser des films denses de TiN, AlN et (Al, Ti)N mais surtout d''am liorer leur adh rence.
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