Plasmagest tzte Beschichtungsverfahren, insbesondere Magnetronsputterprozesse, z hlen zu den essenziellen Methoden der modernen Materialverarbeitung. Struktur und Eigenschaften der entstehenden D nnfilme basieren dabei wesentlich auf der Wechselwirkung von Plasmaspezies und Substrat. In diesem Buch wird die Diagnostik gepulster HiPIMS-Plasmen ("High power impulse magnetron sputtering") diskutiert, unter anderem mit zeitaufgel ster energieselektiver Massenspektrometrie und kalorimetrischen Sonden. Dargestellt sind die angewandten Diagnostiken sowie die entsprechenden Grundlagen der Plasmaphysik und der Plasma-Oberfl chen-Wechselwirkung. Mittels der Messmethoden werden die Ionenenergie und der Energieeintrag im HiPIMS-Prozess mit dem konventionellen DC-Sputtern verglichen. Weiterer Gegenstand der Arbeit ist die Superposition von HiPIMS- und Hochfrequenzanregung (HF) an einem Magnetron. Die Resultate zeigen erstmalig, dass dies die Ionenenergie signifikant steigert und effizientere Abscheideprozesse erm glicht.
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