Ce travail porte sur la mise en evidence d'un phenomene thermique responsable de la creation de gouttelettes sur les couches minces deposees par ablation laser. Afin d'etudier les differents mecanismes d'ablation de la matiere par un laser pulse, nous avons mis en uvre trois techniques de diagnostics, l'un consistant a mesurer la quantite de matiere ejectee, le deuxieme utilise l'analyse des impacts par un microscope electronique a balayage, et le troisieme est base sur la dynamique du plasma en expansion. Trois materiaux metalliques (Ti, W et Zr), semi-metallique (Graphite) et un semi-conducteur (Si) ont ete utilises comme cible. Les resultats ont montre l'existence de trois regimes d'ablation, correspondant a une evaporation normale, un regime de chauffage en volume et un regime d'explosion de phase, pour lequel des seuils en flux laser ont ete determines. L'analyse des signaux de collecteur d'ions, ont permis d'une part de mettre en evidence, l'existence d'une distribution en energie multimodale, le claquage optique dans la vapeur, et d'autre part, de correler ces resultats obtenus sur la quantite de matiere ablatee, et les observations au microscope a balayage."
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